近日,光电工程学院张彤博士在国际知名期刊《applied surface science》上在线发表了最新研究成果,张彤博士为第一作者,枣庄学院光电工程学院为第一完成单位。
现代电子电路中,为了使失效安全和电路结构设计简单,通常采用p型半导体耗尽algan / gan异质结构中二维电子气(2deg)的方法使阈值电压达到正开启(常关)状态,由于目前微纳加工中p型gan刻蚀技术难以掌控,因此本研究采用工艺简单的p-nio作为栅级。研究结果表明,与ni/au栅极器件(常开型)相比,p-nio栅极器件的阈值电压发生正向移动。分析结果显示,阈值电压的正向移动与nio和algan之间较高的能带偏移有关,通过拟合xps光谱,得到nio和algan之间价带和导带的偏移为1.6ev和1.4ev(nio薄膜的带隙为3.6 ev)。研究结果为进一步制作常关型功率器件打下了基础。
该研究工作得到了国家自然科学基金(2017yfb0403000)等的支持。
(文/科技处)